產(chǎn)品名稱：iCAP Q 二手 賽默飛 ICP-MS
產(chǎn)品型號：
更新時(shí)間：2025-12-11
產(chǎn)品特點(diǎn)：iCAP Q 二手 賽默飛 ICP-MS賽默飛 iCAP Q 是一款德國制造的單四極桿 ICP?MS，以高靈敏度、寬動(dòng)態(tài)范圍和強(qiáng)抗干擾能力為核心優(yōu)勢，適用于從 ppq 到 % 級的痕量至常量多元素同時(shí)分析，廣泛用于環(huán)境、食品、制藥、材料等領(lǐng)域。以下為你提供核心參數(shù)、維護(hù)要點(diǎn)與常見故障處理，方便日常管理與快速排障。
產(chǎn)品詳細(xì)資料：
核心性能參數(shù)
| 參數(shù)類別 | 技術(shù)指標(biāo) |
|---|---|
| 質(zhì)譜范圍 | 4–290 amu |
| 質(zhì)量分辨率 | 標(biāo)準(zhǔn)分辨率約 0.7 amu（10% 峰高），支持高分辨模式切換 |
| 靈敏度 | Li（低質(zhì)量）> 50 Mcps/ppm；In（中質(zhì)量）> 220 Mcps/ppm；U（高質(zhì)量）> 300 Mcps/ppm |
| 檢出限（DL） | 輕質(zhì)量元素 < 0.5 ppt；中 / 高質(zhì)量元素 < 0.1 ppt |
| 背景與信噪比 | 標(biāo)準(zhǔn)模式背景<1 4.5="">150 M（1 ppm 中質(zhì)量元素） |
| 干擾水平 | 氧化物（MO?/M?）< 2%；雙電荷（Ba2?/Ba?）< 3% |
| 穩(wěn)定性 | 短期（10 min RSD）< 2%；長期（2 h RSD）< 3%；質(zhì)譜校正穩(wěn)定性 < 0.05 amu/8 h |
| 動(dòng)態(tài)范圍 | 脈沖 + 模擬雙模式檢測，線性動(dòng)態(tài)范圍達(dá) 10? |
| 分析效率 | 標(biāo)配自動(dòng)進(jìn)樣，通量約 60 樣品 / 小時(shí) |
iCAP Q 二手 賽默飛 ICP-MS硬件與系統(tǒng)參數(shù)
射頻（RF）發(fā)生器：自激式全固態(tài)，頻率 27.12 MHz，功率可調(diào)范圍 0.5–3 kW，標(biāo)配約 1550 W。
接口系統(tǒng)：鎳采樣錐與截取錐，可拆卸石英炬管（常用 2 mm 內(nèi)徑中心管），帶等離子體實(shí)時(shí)監(jiān)控（Plasma TV）。
QCell 碰撞池：集成 Flatapole 低質(zhì)量剔除，支持 He?KED 模式，可選用 H?等氣體；典型 He 流速 4.5–4.8 mL/min，KED 電壓約 2 V。
真空系統(tǒng)：渦輪分子泵 + 機(jī)械泵組合，開機(jī)抽至工作真空 < 15 min；靜態(tài)真空（滑閥關(guān)閉）< 6×10?? mbar。
檢測器：脈沖 / 模擬雙模式計(jì)數(shù)，自動(dòng)交叉校準(zhǔn)，覆蓋 0.1 cps–10? cps 線性范圍。
進(jìn)樣系統(tǒng)：高效石英同心霧化器，小體積旋流霧化室（半導(dǎo)體制冷，控溫?10 至 20 °C），兼容液體、氣體與固相進(jìn)樣。
軟件與控制：Qtegra ISDS 軟件，支持方法編輯、自動(dòng)調(diào)諧、數(shù)據(jù)批處理與合規(guī)審計(jì)追蹤。
典型工作參數(shù)（參考）
| 參數(shù)項(xiàng) | 常用值 | 參數(shù)項(xiàng) | 常用值 |
|---|---|---|---|
| 正向功率 | 1550 W | 輔助氣流量 | 0.8 L/min |
| 霧化氣流量 | 0.8–0.9 L/min | 冷卻氣流量 | 14.0 L/min |
| QCell He 流量 | 4.8 mL/min | 采樣深度 | 約 10 mm（可調(diào)） |
| KED 電壓 | 2 V | 駐留時(shí)間 | 10–100 ms（依元素優(yōu)化） |
| 積分點(diǎn)數(shù) / 峰 | 1–3 點(diǎn) | 樣品 / 清洗時(shí)間 | 各約 45 s |
環(huán)境與安裝要求
溫度：15–30 °C；濕度：≤80%（無冷凝）。
電源：單相 200–240 V，50 Hz，功率≥5 kVA（含輔助設(shè)備）。
氣體：氬氣（純度≥99.999%）、氦氣（碰撞池用），配套穩(wěn)流閥與凈化器。
備注
以上為 iCAP Q 系列通用參數(shù)，不同配置（如 iCAP Qc）或軟件版本可能略有差異，建議以儀器附帶的《操作手冊》為準(zhǔn)。
方法開發(fā)中，霧化氣流量、采樣深度、碰撞池參數(shù)需根據(jù)樣品基體與目標(biāo)元素進(jìn)一步優(yōu)化，以平衡靈敏度與抗干擾能力。
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